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超高壓XRD分析手段有2種，分單晶X射線衍射法，多晶X射線衍射法。對應地，所用的XRD設備，也分為單晶衍射儀和多晶衍射儀。物相，簡稱為相，它是有某種晶體結構并能用化學式表征其化學成分（或有一定的成分范圍）的固體物質。化學成分不同的是不同的物相，化學成分相同而內部結構不同的，也是不同的物相。例如，同樣是鐵，它能以晶體結構為體心立方結構的Fe、也能以面心立方結構的Fe、還能以體心立方結構的高溫Fe，這3種物相形式存在。X射線的性質：1）物理作用，使某些物質發出熒光一可見光，用于熒...

當一束單色X射線照射到晶體上時，晶體中原子周圍的電子受X射線周期變化的電場作用而振動，從而使每個電子都變為發射球面電磁波的次生波源。所發射球面波的頻率與入射的X射線相一致。基于晶體結構的周期性，晶體中各個原子（原子上的電子）的散射波可相互干涉而疊加，稱之為相干散射或衍射。X射線在晶體中的衍射現象，實質上是大量原子散射波相互干涉的結果。每種晶體所產生的衍射花樣都反映出晶體內部的原子分布規律。X射線衍射儀XRD主要部件包括4部分：（1）高穩定度X射線源提供測量所需的X射線，改變X...

日本電子電鏡可對各種材料的物質表面形貌進行觀察，特別適用于不便進行破壞性處理的塊狀樣品；配合能譜儀可以對各種元素進行定性、定量分析；配合電子背散射衍射系統可進行織構、晶體取向等分析。廣泛應用于金屬材料、無機材料、高分子材料、催化劑、潤滑材料、地質礦物、金屬、沙漠、生物醫學等方面。電子顯微鏡是以電子束作光源、電磁場作透鏡、具有高分辨率和放大倍率的顯微鏡。電鏡通過收集、整理和分析電子與樣品相互作用產生的各種信息而獲得物體的形貌和結構等。電鏡的類型也是利用電子信號的不同和成像的不同...

由于半導體器件體積小、重量輕、壽命長、功率損耗小、機械性能好.因而適用的范閘極廣。然而半導體器件的性能和穩定性在很大程度上受它表面的微觀狀態的影響。一般在半導體器件試制和生產過程巾包括了切割、研磨、拋光以及各種化學試劑處理等一系列工廳，~正是在這些過程巾，會造成表面的結構發生驚人的變化，所以幾乎每一個步驟都需要對擴散進行檢測.深度進行測繭或者直接看到擴散區的實際分布情況，而生產大型集成電路就更是如此。目前.臺式掃電鏡在半導體中的應用已經深入到許多方面。臺式電鏡SEM質量監控與...

高溫環境XRD主要應用于樣品的物相定性或定量分析，晶體結構分析，材料的織構分析，宏觀應力或微觀應力的測定，晶粒大小測定，結晶度測定等等，因此，在材料科學、物理學、化學、化工、冶金、礦物、藥物、塑料、建材、陶瓷……以至考古、刑偵、商檢等眾多學科、相關的工業、行業中都有重要的應用。是理工科院校和涉及材料研究、生產的研究部門、廠礦的重要的大型分析設備。高溫環境XRD基本構成包括：高穩定度X射線發生器，精密測角臺，X射線強度測量系統，安裝有專用軟件的計算機系統等四大部分。按其X射線發...

鎢燈絲電鏡成像所用的物理信號是電子束轟擊固體樣品而激發產生的。具有一定能量的電子，當其入射固體樣品時，將與樣品內原子核和核外電子發生彈性和非單生散射過程，激發固體樣品產生多種物理信號，如二次電子、背散射電子、吸收電子、X射線、俄歇電子等。SEM中的三種主要信號：背散射電子：入射電子在樣品中經散射后再從上表面射出來的電子。反映樣品表面不同取向、不同平均原子量的區域差別。二次電子：由樣品中原子外殼層釋放出來，在掃描電子顯微術中反映樣品上表面的形貌特征。x射線：入射電子在樣品原子激...

任何物質的光譜產生都有著嚴格的物理機制。分子的能量由電子能量、振動能量和轉動能量組成。根據理論計算，振動能級之間的能量差在0.25~1.0eV之間時，光譜產生在近中紅外區。在0.4~1.3um范圍內，主要取決于礦物晶格結構中存在的鐵等過渡性金屬元素；1.3～2.5um范圍內的光譜特性是由礦物中的碳酸根離子、氫氧根離子和水分子決定的；3~5um光譜范圍的中遠紅外波段光譜由Si-O、Al-O等分子鍵振動模式決定。在對巖礦光譜進行定量分析時，根據礦物的吸收特征，為每種礦物建立起綜合...